Enscape 4.2 現(xiàn)已推出：介紹 Enscape Impact

 

最新版本為您提供了主機(jī)應(yīng)用程序特定的功能，以便與設(shè)計應(yīng)用程序更緊密地集成。這一系列更新增強(qiáng)了 Enscape 最重要的優(yōu)勢——它與主機(jī)應(yīng)用程序的無縫集成，使您能夠比以往更快、更精確地工作。Enscape 4.2 包括：

• Enscape Impact
• Revit 圖形覆蓋
• 支持 Rhino 中的 WCS 映射
• 軟件光線追蹤改進(jìn)
• 多個剖面
• 還有更多！

 

查看新功能

通過這些更新，體驗實時可視化的速度和便捷性。

Enscape Impact 附加組件

這款全新的附加組件可讓您在設(shè)計的早期階段查看建筑物的能源性能，讓您能夠就設(shè)計的可持續(xù)性做出明智的決策。它與 Enscape 4.1 和 4.2 兼容。

• 訪問高級建筑性能數(shù)據(jù)。
• 與利益相關(guān)者輕松溝通性能效率。

 

Revit 圖形覆蓋

查看 Revit 過濾器定義的渲染中的材質(zhì)和顏色覆蓋。此功能可確保渲染工具反映 Revit 中使用的相同對象外觀和覆蓋，從而增強(qiáng)工作流程和演示準(zhǔn)確性。

• 保持 Revit 和 Enscape 之間的一致性，簡化設(shè)計和演示流程。
• 通過在 Enscape 中顯示或隱藏 Revit Filter 覆蓋來控制渲染視圖。

 

 

支持 Rhino 中的 WCS 映射

此功能允許您利用世界坐標(biāo)系 (WCS) 映射材料，提供更靈活的工作流程并確保真實世界的比例和準(zhǔn)確性，特別是對于默認(rèn)設(shè)置為使用 WCS 映射的庫材料。

• 通過精確的材質(zhì)渲染獲得更準(zhǔn)確的視覺輸出。
• 使用默認(rèn)為 WCS 映射的庫材料簡化設(shè)計流程。

 

 

軟件光線追蹤改進(jìn)

改進(jìn)包括全局照明和太陽陰影的軟件光線追蹤，可讓您的渲染更加逼真。享受更逼真的照明、細(xì)致的陰影、鏡面反射和增強(qiáng)的色彩準(zhǔn)確度。而且，您的太陽陰影可受益于更準(zhǔn)確的光線方向、強(qiáng)度和柔和度。

• 在任何設(shè)備上提供高質(zhì)量渲染，包括 Mac 和集成顯卡的機(jī)器。
• 在沒有硬件光線追蹤的機(jī)器上實現(xiàn)與硬件光線追蹤相當(dāng)?shù)囊曈X保真度。

 

 

多個剖面

剖面圖對于理解和傳達(dá)建筑空間至關(guān)重要。此更新使 Enscape 能夠支持在 Rhino 中渲染最多六個剖面和在 Vectorworks 中渲染剪切立方體，從而增強(qiáng)詳細(xì)的橫截面可視化。

• 更好地理解客戶并進(jìn)行有影響力的演示。
• 擁有更多控制選項并按照您想要的方式講述設(shè)計故事。

 

Chaos Cloud

此集成可讓您在 Chaos Cloud 上執(zhí)行設(shè)計審查流程的每個步驟。上傳全景圖和渲染圖，并使用標(biāo)記工具直接在可視化效果上進(jìn)行注釋。您還可以分配平面圖并使用迷你地圖協(xié)助游覽導(dǎo)航。

• 輕松與您的團(tuán)隊和同事在一個地方協(xié)作
• 讓客戶通過高級虛擬導(dǎo)覽探索設(shè)計