2025年的首次更新是我們迄今為止規(guī)模最大的一次。此次更新引入了全新的布局工具——堆棧（Stacks），以及以框架（Frames）為代表的重大基礎(chǔ)架構(gòu)變革。同時，命令欄也得到了顯著優(yōu)化，還有更多精彩內(nèi)容等待探索。

 

我們?yōu)榇舜胃旅麨锳thens。作為一座城市，雅典是民主的發(fā)源地——這是我們極為珍視的價值——同時也是現(xiàn)代世界基礎(chǔ)架構(gòu)的發(fā)源地。而此次更新正是圍繞基礎(chǔ)架構(gòu)展開。

 

全新功能：堆棧（Stacks）

 

沒錯，這一天終于到來。Sketch終于迎來了全新的布局工具。它的使用邏輯和Figma的自動布局功能或Framer中的Stacks功能類似。

 

借助堆棧，你可以創(chuàng)建從根據(jù)標(biāo)簽大小自動調(diào)整的按鈕，到整個界面中嵌套布局（可適應(yīng)容器大小或內(nèi)容變化）的各種設(shè)計。

 

你對堆棧的大小、間距、對齊方式、分布方式和樣式擁有完全控制權(quán)。你還可以選擇堆棧中的項目是否采用不同對齊方式、填充可用空間，或完全忽略布局規(guī)則。

 

 

新容器：框架和圖形

堆棧只是 Athens 更新的部分內(nèi)容。我們還引入了框架——一種新的容器，取代了畫板，專為 UI 設(shè)計而打造，與堆棧緊密配合。

 

你可以嵌套框架，使用多個屬性進行樣式設(shè)置（不再需要背景圖層?。?，為其內(nèi)容設(shè)置縮放約束，或為其應(yīng)用堆棧布局。

 

對于圖標(biāo)和插圖，我們引入了另一種容器類型——圖形。它們具有固定大小，其內(nèi)容將始終按比例調(diào)整大小。“圖形”還提供了一個更聚焦的檢查器，沒有固定或調(diào)整大小的控件。

 

我們保留了分組（Groups）。您可以使用它們來組織圖層并將其保持在一起，而無需額外屬性。

 

 

命令欄中的組件

我們都曾為插入組件時面對的深度嵌套菜單而困擾，因此我們用更高效的方案取代了它們。命令欄現(xiàn)在可輕松查找并插入符號 Y、文本樣式 、模板、圖層樣式和顏色變量。您還可以通過替換已選中的任何組件。

 

我們用一個由命令欄觸發(fā)的全新彈出窗口替換了檢查器菜單，用于執(zhí)行交換組件。它顯示更多有用信息，支持庫的鍵盤導(dǎo)航，并附帶多個實用快捷鍵。

 

我們改進了符號縮略圖，支持自定義深色或淺色背景，為其他組件類型添加了豐富預(yù)覽，并新增了鍵盤快捷鍵，可快速在庫中逐層展開。

 

改進 （64）

- 文本和排版

• 現(xiàn)已支持文本樣式覆蓋的基本樣式設(shè)置。您可以在檢查器中使用類似 Markdown 的語法來設(shè)置 *加粗*、_斜體_ 和 ［下劃線］，或在畫布上選中文本后使用進行設(shè)置。

• 對齊方式和文字顏色現(xiàn)已成為文字樣式中的可選屬性。如果您發(fā)現(xiàn)庫中存在大量覆蓋每種對齊方式的文字樣式，此功能正是為您而設(shè)。您可通過組件視圖或檢查器中文字樣式名稱下的“更多”菜單，排除這些屬性。您還可在 Sketch 設(shè)置中為這些屬性設(shè)置默認(rèn)值。

• 現(xiàn)可單獨調(diào)整文本圖層寬度和高度的縮放行為，可選擇“固定”或“適應(yīng)”（原“自動”）。

 

- 組件與庫

• 現(xiàn)可將特定符號從命令欄、插入菜單及符號替換菜單中排除。適用于占位符、僅需嵌套的符號，或不希望替換的屏幕尺寸符號。

• 在組件視圖中，新增了更改符號縮略圖背景的選項——適用于那些在灰色背景上幾乎看不見的淺色圖標(biāo)。您可以選擇深色、淺色或應(yīng)用程序外觀。

• 當(dāng)您有庫更新時，我們在組件更新表中新增了選擇或取消選擇所有組件的選項。這應(yīng)使更新特定組件更加方便。

• 在“設(shè)置”和“文檔設(shè)置”的“庫”面板中新增了篩選選項，僅顯示已啟用的庫。

• 我們新增了一個復(fù)選框，可在工作區(qū)窗口的縮略圖中快速啟用或禁用庫。

• 您現(xiàn)在可以選擇是否在圖層樣式中包含角部——這有助于在圖像、畫板和常規(guī)圖層中保持角部的一致性。

• 當(dāng)您用符號替換普通圖層時，我們將遵循在命令欄符號視圖中的“保留當(dāng)前尺寸”設(shè)置。

· 當(dāng)您從嵌套圖層創(chuàng)建符號且選擇不將其發(fā)送到符號頁面時，我們將把符號源放置在更靠近您選擇的位置。此外，如果符號源被翻轉(zhuǎn)或旋轉(zhuǎn)，其實例將遵循該操作。

• 我們已使符號更易于識別。在畫布上，您現(xiàn)在會看到紫色懸停和選擇框，用于符號源、實例以及實例內(nèi)的圖層。在圖層列表中，符號源具有加粗的紫色標(biāo)簽，而選中的源和實例則帶有紫色背景。這些顏色無論您的系統(tǒng)強調(diào)色如何，都保持不變。

 

- 尺寸和固定

• 所有圖層的寬度和高度現(xiàn)在新增了“固定”和“相對”調(diào)整大小選項。這些選項取代了“固定大小”約束。在某個軸上啟用了“固定大小”約束的圖層將在該軸上被“固定”。未啟用“固定大小”約束的圖層將被“相對”調(diào)整。

• 文本圖層的寬度和高度新增了“適配”大小選項，取代了“自動寬度”“自動高度”和“固定大小”選項。原先設(shè)置為“自動寬度”的圖層現(xiàn)在將采用“適配”寬度和高度，而原先設(shè)置為“自動高度”的圖層將采用“適配”高度。

• 檢查器中的固定控制新增了上下文菜單：右鍵點擊可看到“固定全部”“取消固定”“自動固定”或“重置為默認(rèn)”操作。這些操作也可通過圖層菜單和命令欄訪問。

• 我們?yōu)闄z查器中的固定控制添加了一些便利功能。如果圖層軸的一端已被固定，按住 Option 鍵點擊固定點將切換固定到另一端，而非同時固定兩端。如果兩端均未固定或均已固定，按住 Option 鍵點擊將同時切換兩端的固定狀態(tài)。

• 當(dāng)您調(diào)整比例被鎖定的圖層的大小（或按住 Shift 鍵調(diào)整大?。r，我們現(xiàn)在確保該圖層始終以整數(shù)像素調(diào)整大小，即使這意味著稍微放松其比例。

• 調(diào)整僅在一軸一端固定的圖層大小（無論是箭頭鍵，還是通過 W/H 檢查器字段）時，現(xiàn)在將從該端調(diào)整圖層大小。例如，僅固定在右側(cè)的按鈕在增大寬度時仍會保持在右側(cè)。

· 現(xiàn)在可以固定沒有固定大小（適配或相對）的圖層的兩端。圖層的大小將保持不變，編輯圖層內(nèi)容也不會改變它。然而，調(diào)整其父圖層的大小會使該圖層變成固定大小。

• 您可以通過按下方向鍵調(diào)整容器大小，同時忽略其內(nèi)容的約束。這與在畫布上使用調(diào)整大小的方式相同。

· 您現(xiàn)在可以使用“調(diào)整大小以適應(yīng)”功能（位于“排列”菜單中）來處理文本圖層和框架。

· 當(dāng)您使用對齊操作將單個圖層對齊到其父圖層的邊緣或中心時，我們會調(diào)整其錨點以匹配該對齊方式。例如，如果您將圖層對齊到右側(cè)，我們會將其錨點固定在右側(cè)。

 

-樣式和布局

• 新增的文字樣式默認(rèn)不再包含顏色和對齊方式。同樣，新增的圖層樣式默認(rèn)將始終包含角部樣式。您可以在“設(shè)置”>“圖層”中更改這些默認(rèn)設(shè)置。復(fù)制并粘貼圖層樣式時將遵循此角部樣式偏好設(shè)置，而粘貼時按住?鍵則不會遵循角部樣式偏好設(shè)置。

• 現(xiàn)可調(diào)整任何圖像的角部半徑和樣式——無需再創(chuàng)建蒙版！

• 使用吸管工具 ?C 為選區(qū)應(yīng)用顏色時，仍會更改選區(qū)的可見顏色。但若選區(qū)原本沒有純色填充，則會添加新的純色填充。若所有帶純色填充的樣式均已禁用，則會啟用并更改第一個樣式。

• 旋轉(zhuǎn)圖層現(xiàn)在更加便捷。只需拖動靠近角落的位置，無需按住 Command 鍵。

• 檢查器中的旋轉(zhuǎn)字段現(xiàn)在顯示更精確的值，最多兩位小數(shù)。

• 您現(xiàn)在可以按住 ? 鍵點擊標(biāo)尺以插入輔助線，同時忽略對齊功能。您仍可右鍵點擊標(biāo)尺本身，或按住 ? 鍵點擊標(biāo)尺原點的鎖定圖標(biāo)，以打開其上下文菜單。

• 我們改進了對使用非零環(huán)繞規(guī)則的文本和形狀的內(nèi)部邊框、外部邊框及內(nèi)陰影的渲染效果。

• 您可以通過圖層 > 樣式菜單、命令欄或按下 快速交換所選圖層的邊框和填充顏色。

• 在空白畫布上插入框架或圖形時，將其放置在 0,0 坐標(biāo)點。

• 我們已將“分組”和“取消分組”工具欄按鈕合并為一個按鈕，您可通過菜單選項進行點擊，從而對框架、圖形或組中的選取進行分組，也可堆疊選區(qū)，或取消分組。

• “置前”和“置后”功能現(xiàn)可根據(jù)當(dāng)前容器中視覺位置，將選中圖層相對于其前/后圖層進行移動，無需多次調(diào)整位置來預(yù)覽視覺效果。因此，圖層在圖層列表中可能會一次性跳過幾個圖層。

 

工作流程與生產(chǎn)力

• 我們已更新插入工具欄按鈕，使其具備兩項功能。左側(cè)的 Sketch 菱形圖標(biāo)打開命令欄，右側(cè)的箭頭圖標(biāo)打開當(dāng)前菜單。該菜單不再包含“組件”，因為您可以通過命令欄查找并插入組件。命令欄現(xiàn)在有一個新的單鍵快捷鍵——S（切片現(xiàn)在是E）仍然有效，或者您可以在Sketch設(shè)置中設(shè)置自定義快捷鍵。

• 您現(xiàn)在可以在上下文菜單和命令欄中找到“插入符號實例”操作，以插入任何選定符號源的實例。

• 評論工具欄項新增可拆分面板，顯示文檔中的所有評論和回復(fù)。您可以過濾顯示全部、已打開和未讀評論，并點擊任何評論以在文檔中定位。工具欄項本身也會顯示未讀評論數(shù)量。

• 新增工具欄項可顯示二維碼，用于在 iOS 應(yīng)用中打開文檔并做鏡像設(shè)置，同時提供分享鏈接的選項。

• 當(dāng)您連續(xù)多次復(fù)制圖層時，我們現(xiàn)在會根據(jù)前一圖層與前前一圖層之間的距離對每個新圖層進行偏移。這是一個難以描述的細(xì)節(jié)，但您可以嘗試復(fù)制一個圖層、對其進行少量偏移，然后再次復(fù)制。您就會明白我們的意思了！

•新增“粘貼并替換”選項，可將當(dāng)前選區(qū)替換為粘貼的圖層。您可通過“編輯”>“粘貼”及上下文菜單訪問，或使用快捷鍵 ??R。

•您現(xiàn)在可在“設(shè)置”>“畫布”中設(shè)置更小的微調(diào)值，例如 0.25。最小值為 0.01。

• 我們新增了快捷鍵用于在使用鋼筆工具時調(diào)整點對齊方式。這些數(shù)字與檢查器中的點對齊控制項呈左至右的視覺映射關(guān)系，類似于使用 1 至 4 更改點類型的方式。

• 當(dāng)您在檢查器或顏色選擇器中點擊 HEX 字段時，我們現(xiàn)在會自動選中該值，使粘貼或輸入新值的速度稍快一些。

• 當(dāng)您導(dǎo)入或粘貼 SVG 或 SVG 代碼時，我們現(xiàn)在會創(chuàng)建一個與 SVG 大小匹配的圖形。

• 在文本編輯模式下點擊畫布將結(jié)束文本編輯，但此時你正在編輯的文本圖層仍將保持選中狀態(tài)。

• 您可以隱藏和鎖定頂層框架，就像對其他圖層所做的操作一樣。若隱藏某個框架，那么它就不會在網(wǎng)頁APP中顯示，您也無法看到它。

· 在容器上按下 Enter 鍵現(xiàn)在會選中所有子層（除鎖定或隱藏的子層外），而非僅選中頂層子層。在所有子層被選中時，您仍可按下 Tab 鍵將選中范圍縮小至頂層子層。

· 我們簡化了在“覆蓋”面板中選擇嵌套實例的操作?，F(xiàn)在，點擊嵌套實例名稱旁的 → 按鈕可直接選中該實例，而非跳轉(zhuǎn)至其源位置。如果您需要跳轉(zhuǎn)到源代碼，只需按住 Command 鍵點擊按鈕。

· 按住空格鍵現(xiàn)在會暫時隱藏所有選擇框、手柄、網(wǎng)格和引導(dǎo)線，幫助您更清晰地查看設(shè)計。無論您是否正在對畫布進行操作，都可使用此功能。

• 我們新增了自動固定功能，該功能會根據(jù)選中內(nèi)容的大小及其與父級邊界的距離自動設(shè)置固定點。要使用該功能，請點擊檢查器固定控制區(qū)域中央的 A 按鈕，按下 ?A，或在菜單和命令欄中查找“自動固定”。

• 當(dāng)您粘貼或復(fù)制圖層且其位置超出視口范圍時，畫布將自動居中顯示該圖層以便查看。

• 使用“框架”（原“畫板”）或“圖形”工具時，現(xiàn)在可通過點擊插入與上次交互的頂級框架或圖形尺寸相同的框架或圖形。這使得快速繪制多個屏幕、組件或圖標(biāo)的容器變得更加容易，且尺寸一致。

• 矩形選擇工具（按下或長按 X）現(xiàn)在可以選擇任何層級中的圖層，因此無需同時按下 鍵進行層級下鉆。它還會忽略開始選擇時所在的圖層。這在選擇框架內(nèi)的多個圖層時非常方便，無需同時選擇框架本身。

• 我們對“全選”功能進行了優(yōu)化。若頂級圖層被選中，它將同時選中所有其他頂級圖層。若未選中任何圖層，它將選中所有頂級圖層。最后，若當(dāng)前層級中的所有圖層已選中，它現(xiàn)在將選中上一層級的所有圖層——您可以繼續(xù)按下?A以逐層擴展選中范圍。

• 使用序列令牌重命名多個圖層時，現(xiàn)在可以選擇從哪個字母或數(shù)字開始，以及每個圖層如何遞增。

• 我們新增了一個設(shè)置，用于選擇在按住 鍵繪制新圖層時是否繼續(xù)鎖定比例。您可以在“設(shè)置”>“圖層”>“繪圖圖層”中找到該設(shè)置。

 

- 模板

• 我們新增了反映最新 Android 設(shè)備的框架模板，采用統(tǒng)一比例并更新了縮略圖。同時移除了舊版設(shè)備模板。

• 模板文檔現(xiàn)已向使用 Mac 專用許可證的用戶開放，便于您快速啟動新項目。您可在“文檔窗口”的“設(shè)計資源”標(biāo)簽下找到這些模板。

 

-通用改進

• 現(xiàn)可在所有框架的原型中使用滾動功能。對于頂級框架，您可以選擇由框架尺寸（包含界外圖層）定義滾動視口，也可以選擇自定義大?。ㄔO(shè)置更高/更寬的框架）。您還可以設(shè)置嵌套幀進行滾動，其完整寬高將在父幀邊界內(nèi)滾動。

• 您現(xiàn)在可以為文檔中的單個頁面添加自定義畫布顏色。當(dāng)您未選中任何內(nèi)容時，可在檢查器中找到此選項，同時您還可在此處更改文檔的顏色配置文件。自定義畫布顏色將對查看頁面的人員顯示。未設(shè)置自定義畫布顏色的頁面將繼續(xù)遵循您在“設(shè)置”>“通用”>“畫布”中的偏好設(shè)置。

• 我們的應(yīng)用圖標(biāo)現(xiàn)可適應(yīng)系統(tǒng)淺色或深色模式偏好。您還可在“設(shè)置”>“通用”中找到更多圖標(biāo)選項。我們提供了取之不盡的選項，您可以盡情探索。

• 當(dāng)您首次打開文檔中的頁面時，系統(tǒng)將自動縮放以使頁面內(nèi)容完全填充窗口。之后，我們會記住該頁面的縮放級別和畫布位置，只要文檔仍保存在您的設(shè)備上且您未從工作區(qū)下載新版本。

• 處理原型流程時，您會發(fā)現(xiàn)速度有所提升，因為我們已優(yōu)化了藝術(shù)板之間鏈接的性能。

• 我們提升了在進行矩形選擇時修飾鍵的響應(yīng)速度。

• 我們已優(yōu)化在復(fù)雜符號之間切換時的性能。

 

更改 (28)

• 此次更新不再支持 macOS 13（Ventura）。我們通過始終使用Apple的最新框架和API提升Sketch性能，并更新了對 macOS 版本的支持。

 

- 鍵盤快捷鍵

• 快捷鍵現(xiàn)在將為選區(qū)應(yīng)用堆棧布局而非智能布局，而 則用于取消該布局。

• 我們更改了變換和旋轉(zhuǎn)的快捷鍵，現(xiàn)分別為

• 我們移除了“批量重命名”和“以最后格式重命名”的快捷鍵。若需快速訪問這些功能，可通過命令欄搜索 S 或在系統(tǒng)設(shè)置中自定義快捷鍵。

• 繪制畫板后，系統(tǒng)將不再自動進入重命名模式。相反，您可以雙擊畫布上的名稱，或按下。

• 為了為新功能騰出空間，我們調(diào)整了部分快捷鍵。切換填充和切換邊框現(xiàn)在分別是和，而查找/搜索圖層現(xiàn)在是。

• 我們新增了一個快捷鍵————用于將容器或文本圖層調(diào)整為適合其內(nèi)容的大小。

• 當(dāng)使用帶有邊框的圖層作為蒙版時，現(xiàn)在您會看到這些邊框顯示在被蒙版的內(nèi)容之上。若要讓邊框顯示在被蒙版的內(nèi)容之下，請使用兩個圖層：一個帶有邊框，另一個位于其上作為蒙版。

• 在調(diào)整組或框架大小時按住 鍵將忽略所有調(diào)整大小約束。如果您之前使用 鍵來禁用對齊功能，現(xiàn)在應(yīng)改用 鍵。

• 我們已將拖動、繪制或放置對象時忽略對齊功能的修飾鍵從 改為。注意：您只能在開始拖動或繪制圖層后按下?鍵。

• 我們已移除了各種“在畫板中對齊”的快捷鍵。您仍可通過在檢查器頂部點擊對齊按鈕，將選中內(nèi)容對齊到頂級框架（此前為畫板）。

• 我們新增了快捷鍵用于“圓角對齊像素”。

 

-檢查器

• 圖層的 X 和 Y 坐標(biāo)現(xiàn)對應(yīng)離其最近的框架，而非頂級框架（原畫板）。

• 如果組或畫板未啟用智能布局，檢查器中的布局面板現(xiàn)在會更緊湊。要應(yīng)用智能布局，請點擊 + 圖標(biāo)（默認(rèn)設(shè)置為水平布局）。要取消，請點擊垃圾桶圖標(biāo)。

• 對于支持色調(diào)的圖層，我們已將色調(diào)控制項移至檢查器中“外觀”面板的底部。

• 我們已從組件視圖的檢查器中移除了布局面板。您仍可在畫布視圖中編輯符號源的布局屬性。

 

-樣式

• 如果為組應(yīng)用色調(diào)，它不會影響該組的陰影（如果有的話）。色調(diào)現(xiàn)在僅影響組的內(nèi)容。

• 我們更改了新形狀的默認(rèn)樣式；它仍然是灰色填充，但不再有邊框。如果您為新形狀設(shè)置了自己的默認(rèn)樣式，此更改不會影響它。

• 我們更改了部分新樣式屬性的默認(rèn)設(shè)置。添加新填充時，現(xiàn)在始終添加實心填充；添加新邊框時，現(xiàn)在添加內(nèi)部邊框（但在open路徑中仍然是居中，在文本中仍是外部邊框）。我們還調(diào)整了默認(rèn)陰影樣式。

• 當(dāng)你創(chuàng)建新的文本圖層時，它現(xiàn)在將匹配你在該文檔中最后編輯的文本圖層的樣式。此前，文檔（包括新文檔）會沿用其他文檔的樣式。

 

- 通用更改

• 當(dāng)您創(chuàng)建符號時，現(xiàn)在無法從對話框中選擇布局。你可以在將容器轉(zhuǎn)換為符號之前向其添加布局，或在轉(zhuǎn)換后向符號源添加布局。

• 您現(xiàn)在無法通過拖動來調(diào)整標(biāo)尺的原點。如果您的文檔中已調(diào)整過標(biāo)尺原點，這些設(shè)置仍然存在，您可以通過上下文菜單（在兩個標(biāo)尺交匯的角落處按住 Control 鍵點擊）進行重置。

• 我們已移除了“單擊時選擇組內(nèi)容”功能。所有群組現(xiàn)在均采用預(yù)設(shè)行為：使用雙擊選取群組內(nèi)容，或按住 Command 鍵點擊以在選取時忽略所有群組。

• 顯示或隱藏協(xié)作者游標(biāo)、名稱和選取范圍的不同審閱選項，現(xiàn)在已整合為單一「顯示協(xié)作者」選項，可在先前選項出現(xiàn)的任何位置使用。我們也已移除審閱菜單中的「顯示圖層選取」和「顯示圖層高亮」選項。

• 設(shè)置為“自動寬度”的文本圖層現(xiàn)在會在選區(qū)框的四個角落顯示縮放手柄，而非在左右邊緣的中心位置。

• 我們已移除“圖層 > 樣式 > 填充選項”和“圖層 > 樣式 > 邊框選項”菜單項。您仍可通過填充和邊框檢查器面板中的齒輪圖標(biāo)訪問這些選項。

• 頂級框架（原畫板）在滾動時不再像粘性標(biāo)題一樣固定?，F(xiàn)在它們會像其他圖層一樣滾動，但我們已將標(biāo)簽加粗以確保易于識別。

• 若選中組對象，粘貼操作將直接粘貼到組內(nèi)部，而非作為組的同級對象，從而在所有容器類型（組、畫板、圖形）中保持一致性。

 

修復(fù)（22）

• 修復(fù)了使用鍵盤上的 Command-箭頭鍵無法調(diào)整智能布局組內(nèi)組大小的問題。

• 修復(fù)了使用符號或組作為蒙版時，蒙版內(nèi)容可能出現(xiàn)異常行為的問題。

• 修復(fù)了在網(wǎng)頁應(yīng)用和原型播放器中，蒙版圖層有時渲染不正確的問題。

• 修復(fù)了將組移動到另一個組內(nèi)或外時，可能導(dǎo)致著色效果未正確更新的錯誤。

• 修復(fù)了在某些情況下，Sketch 可能錯誤計算 PDF 導(dǎo)出文件大小的錯誤，這可能影響其在其他應(yīng)用中打開時的顯示效果。

• 如果協(xié)作者最初禁用、隨后重新啟用“被關(guān)注”選項，則您無法立即關(guān)注該協(xié)作者的問題已修復(fù)。

• 修復(fù)了檢查器中的縮放工具在某些情況下意外關(guān)閉的錯誤。

• 修復(fù)了標(biāo)尺刻度顯示不正確的錯誤。

• 修復(fù)了工作區(qū)文檔縮略圖有時顯示不正確的錯誤。

• 使用了智能布局的嵌套符號若包含文本層且該文本層的文本被覆蓋導(dǎo)致垂直擴展，則該嵌套符號無法正確縮放的問題已修復(fù)。

• 修復(fù)了在庫中嵌套兩層或以上時，引用顏色變量名稱在某些情況下不會更新的問題。

• 修復(fù)了在工作區(qū)文檔中，當(dāng)將一層與另一層對齊時，會取消選擇參考層的錯誤。

• 修復(fù)了創(chuàng)建自選中畫板的新切片時，切片位置錯誤的問題。

• 修復(fù)了在檢查器中的寬度和高度字段中使用 c、m、b 或 r 修飾符時，對畫板無效的問題。

• 修復(fù)了在某些情況下縮放圖層時，圖層可能被錯誤放置或尺寸不正確的問題。

• 修復(fù)了使用圖層角部調(diào)整旋轉(zhuǎn)圖層大小時，只能調(diào)整一條邊的問題。

• 修復(fù)了使用 作為唯一修飾鍵的自定義鍵盤快捷鍵無法正常工作的問題。

• 修復(fù)了旋轉(zhuǎn)圖層時，其大小調(diào)整范圍遠(yuǎn)超預(yù)期邊界范圍的錯誤。

• 修復(fù)了點擊圖層的控制點或邊界（未拖動調(diào)整大?。r會取消選中的錯誤。

• 修復(fù)了在非拉丁字母鍵盤布局下按下 N 鍵添加注釋無法生效的錯誤?，F(xiàn)在按下 （阿拉伯語）、Т（俄語西里爾字母）、N（希臘語）或 （希伯來語）時將生效。

• 修復(fù)了在已開始拖動圖層——然后復(fù)制而非移動圖層——后按下 Option 鍵，會將原始圖層移至前面的問題。

• 修復(fù)了在包含陰影的組內(nèi)扁平化圖層時，陰影會被復(fù)制的問題。