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Match!是一個易于使用的軟件，用于粉末衍射數(shù)據(jù)的相位識別。它將樣品的衍射圖案與包含參考圖案的數(shù)據(jù)庫進(jìn)行比較，以確定存在的相位。關(guān)于樣品的額外知識，如已知相位、元素或密度，可以很容易地應(yīng)用。

 

除此定性分析外，還可以進(jìn)行定量分析（使用Rietveld精化）。您可以很容易地在Match!中設(shè)置和運(yùn)行Rietveld精化，在后臺使用著名的程序FullProf（由J. Rodriguez-Carvajal編寫）自動執(zhí)行實(shí)際計(jì)算。Match!從全自動操作到“專家”模式，為Rietveld精化提供了介紹。該軟件在Windows、MacOS和Linux上本地運(yùn)行。

 

 

 

 

作為參考數(shù)據(jù)庫，您可以應(yīng)用包含的免費(fèi)COD數(shù)據(jù)庫，使用任何ICDD PDF產(chǎn)品，和/或根據(jù)自己的衍射模式創(chuàng)建用戶數(shù)據(jù)庫。用戶數(shù)據(jù)庫模式可以手動編輯、從Peak文件導(dǎo)入、從Crystal結(jié)構(gòu)數(shù)據(jù)（例如CIF文件）計(jì)算或從同事的用戶數(shù)據(jù)庫導(dǎo)入。

 

特點(diǎn)：

粉末衍射數(shù)據(jù)快速多相位識別

在Windows、MacOS和Linux上運(yùn)行

使用根據(jù)COD（包括I/Ic）計(jì)算的免費(fèi)參考圖案、任何ICDDPDF數(shù)據(jù)庫和/或您自己的衍射或晶體結(jié)構(gòu)數(shù)據(jù)進(jìn)行相位識別。

使用參考強(qiáng)度比（RIR）、Rietveld、結(jié)晶度（DOC）和/或內(nèi)標(biāo)法進(jìn)行定量分析

索引（使用Treor或Dicvol）

晶體結(jié)構(gòu)解決方案（使用Endeavour）

Rietveld精化計(jì)算（例如用于定量分析），在背景中使用知名的FullProf

即時使用附加信息（已知相、元素、密度、壓力、溫度、顏色），使用永久限制

針對已識別階段的自動殘差搜索

自動原始數(shù)據(jù)處理

使用鼠標(biāo)舒適的背景定義/修改

使用鼠標(biāo)方便地編輯峰值（添加/移動/刪除/調(diào)整）

使用鼠標(biāo)或?qū)υ捒蚋倪M(jìn)縮放和跟蹤

顯示多個成堆的實(shí)驗(yàn)?zāi)Ｊ剑缬糜诒容^

基于Scherrer方法的晶體尺寸估算

 

Match!功能列表

 

最突出的功能和特點(diǎn)：

Rietveld精化（使用FullProf）

Match!從全自動操作到“專家”模式，為Rietveld精化提供了簡單的介紹。只需點(diǎn)擊兩下鼠標(biāo)，您就可以輕松地將數(shù)據(jù)（衍射圖案和晶體結(jié)構(gòu)）傳輸?shù)?/span>FullProf軟件，并運(yùn)行Rietveld精化。

索引（單細(xì)胞測定；（使用Treor或Dicvol）

索引是粉末衍射數(shù)據(jù)中晶體結(jié)構(gòu)解決方案的一個強(qiáng)制性步驟，例如使用我們的軟件包“Endeavour”?？紤]到單元參數(shù)可以作為約束條件，了解單位單元在相位識別中也非常有用的。今天有相當(dāng)多的索引程序可用；Match!使用這兩個最杰出的：Treor90和Dicvol06。

在Mac、Linux和Windows上運(yùn)行

無論您喜歡哪種操作系統(tǒng)，Match!都能運(yùn)行。當(dāng)然，您可以使用Match!創(chuàng)建的文檔文件在一個平臺上，在任何其他平臺上也可以。

顯示和比較多重衍射圖案

現(xiàn)在可以導(dǎo)入其他的實(shí)驗(yàn)?zāi)Ｊ剑⑺鼈冿@示在彼此的頂部，這樣您就可以將它們與主要的實(shí)驗(yàn)?zāi)Ｊ竭M(jìn)行比較。

直接查看特定階段/條目

您已經(jīng)知道樣品中存在某種相，或者您想檢查某種化合物與實(shí)驗(yàn)衍射圖樣的對比情況？新版本很簡單！

即時使用附加信息

關(guān)于可能存在或不一定存在的樣品樣元素、密度等的附加信息現(xiàn)在可以比以前的版本更容易應(yīng)用。

保存選擇標(biāo)準(zhǔn)

一旦您輸入了一組最符合您要求的選擇標(biāo)準(zhǔn)（例如元素、密度等），您就可以使用適當(dāng)?shù)拿Q保存它，稍后只需單擊兩次鼠標(biāo)即可喚起它。

舒適的背景定義

只需使用鼠標(biāo)在自動計(jì)算的背景曲線中插入、移動或刪除控制點(diǎn)，以精確定義與原始數(shù)據(jù)相關(guān)的背景。

改進(jìn)的縮放設(shè)備

現(xiàn)在縮放還意味著在強(qiáng)度軸上縮放（不僅僅是在2theta軸上）。此外，您現(xiàn)在可以簡單地使用鼠標(biāo)指針和滾輪來放大感興趣的區(qū)域。當(dāng)然，也可以縮放到精確定義的區(qū)域（2theta/強(qiáng)度）。

批處理和自動化

無論您是初學(xué)者還是專家用戶？如您所愿：簡單地調(diào)整您的技能水平，為了讓您在每一步都能完全控制，用Match!自動運(yùn)行完整的階段標(biāo)識，或者兩者之間的任何操作。

晶體尺寸估算

一旦您達(dá)到了一個很好的擬合峰值數(shù)據(jù)的實(shí)驗(yàn)配置文件，您可以讓Match!根據(jù)峰的FWHM值，使用Scherrer公式計(jì)算晶體尺寸值。

手動輸入

雖然匹配列表?xiàng)l目（即已確定存在于樣本中的條目/階段）通常對應(yīng)于當(dāng)前參考數(shù)據(jù)庫中的條目，但也可以直接從頭開始添加所謂的“手動條目”（或階段），例如通過導(dǎo)入晶體結(jié)構(gòu)數(shù)據(jù)或手動輸入。甚至可以只輸入部分晶體結(jié)構(gòu)數(shù)據(jù)集（例如，只包含單位單元參數(shù)，但不包含空間組或原子坐標(biāo)）。

從粉末衍射數(shù)據(jù)快速識別單相位和多相位

定性和定量分析（DOC、內(nèi)部標(biāo)準(zhǔn)）

在Windows、MacOS和Linux上運(yùn)行

在相位識別中使用從COD（包括I/IC）、任何ICDD PDF數(shù)據(jù)庫、任何舊的ICSD/檢索版本（1993-2002年發(fā)布；需要有效的許可證）和/或您自己的衍射數(shù)據(jù)（或根據(jù)晶體結(jié)構(gòu)數(shù)據(jù)（如CIF文件）計(jì)算的圖案）計(jì)算的免費(fèi)參考圖案。

在背景中使用著名的FullProf，執(zhí)行Rietveld精化計(jì)算，例如用于定量分析。

靈活處理參考數(shù)據(jù)庫（包括用戶數(shù)據(jù)庫）；您可以輕松地在不同的參考數(shù)據(jù)庫之間切換，而無需執(zhí)行新的數(shù)據(jù)庫索引。

為X射線和中子衍射創(chuàng)建參考數(shù)據(jù)庫，例如從CIF文件

舒適的用戶數(shù)據(jù)庫管理器，便于維護(hù)用戶數(shù)據(jù)（添加/導(dǎo)入/編輯/刪除/排序條目）

強(qiáng)大的CIF-和ICSD/檢索進(jìn)口，包括計(jì)算粉末形態(tài)、I/IC和密度

可用的原子坐標(biāo)，如ICSD、ICDD PDF-4+或免費(fèi)參考數(shù)據(jù)顯示在數(shù)據(jù)表中，并包含在CIF-或文本文件導(dǎo)出中（如用于Rietveld分析）。

在衍射圖和輸入數(shù)據(jù)表中顯示Miller指數(shù)（hkl）

完全集成處理您自己的衍射數(shù)據(jù)與PDF數(shù)據(jù)（搜索匹配、檢索、數(shù)據(jù)查看）

針對已識別階段的自動殘差搜索

自動原始數(shù)據(jù)處理：α2-剝離、背景減法、峰值搜索、剖面擬合、誤差校正

峰搜索、搜索匹配、相位識別等不需要α2-剝離。

自動優(yōu)化尋峰靈敏度

將所有（或選定）峰值參數(shù)擬合到經(jīng)驗(yàn)剖面數(shù)據(jù)

使用鼠標(biāo)或鍵盤舒適地手動編輯峰值（添加/移動/刪除/調(diào)整）

半定量分析（參考強(qiáng)度比法）

直接使用附加知識（成分、PDF子文件、晶體學(xué)數(shù)據(jù)、顏色、密度等）

集成數(shù)據(jù)庫檢索系統(tǒng)和PDF、COD和用戶數(shù)據(jù)庫的查看器

多步驟撤消/重做

用戶可配置的自動操作

在搜索匹配過程中自動轉(zhuǎn)換D值（可選的）

優(yōu)先定向情況下，可減少對績效指標(biāo)的強(qiáng)度貢獻(xiàn)。

舒適的峰值數(shù)據(jù)和候選模式的圖形和表格比較

用戶可配置報(bào)告（HTML、PDF或文本文件）

查看Diamond中的晶體結(jié)構(gòu)（僅限Windows版Match！）

在線更新（自動或手動）

支持的衍射數(shù)據(jù)文件格式（自動檢測）：

ASCII配置文件（開始、步驟、強(qiáng)度或2列）

Bruker/Siemens原始數(shù)據(jù)（新的和舊的）（*.raw）

Bruker/Siemens DIFFRAC 峰值數(shù)據(jù)（*.dif）

DBWS（*.rfl、*.dat）

DRON-3（仍處于實(shí)驗(yàn)階段）

ENDEAVOUR峰列表（2欄：2theta/d強(qiáng)度/dif）

G670原始數(shù)據(jù)（*.gdf）

GNR原始數(shù)據(jù)（以前是ITAL結(jié)構(gòu)）（*.esg）

INEL原始數(shù)據(jù)（*.dat）

Jade /MDI/ SCINTAG原始數(shù)據(jù)（*.mdi）

JEOL ASCII導(dǎo)出原始數(shù)據(jù)（*.txt）

PANalytical XRDML Scan原始數(shù)據(jù)（*.xrdml）

PANalytical/Philips峰值數(shù)據(jù)（*.udi）

PANalytical/Philips原始數(shù)據(jù)（*.rd、*.udf）

Rigaku原始數(shù)據(jù)（二進(jìn)制文件和包含“*”——關(guān)鍵字的文本文件）

SCINTAG原始數(shù)據(jù)（*.raw、*.rd）

Seifert

Shimadzu原始數(shù)據(jù)（*.raw）

Siemens（UXD）

Sietronics XRD掃描數(shù)據(jù)（*.cpi）

存儲原始數(shù)據(jù)（*.raw）

Stoe 峰值數(shù)據(jù)（*.pks）

TXRD導(dǎo)出文本文件（*.txt）

XPowder原始數(shù)據(jù)（*.plv）

XRDML原始數(shù)據(jù)（*.xrdml）

 

Match! v3中的進(jìn)一步改進(jìn)包括：

[僅限Windows版本]使用Endeavour的結(jié)構(gòu)解決方案

現(xiàn)在可以直接將新條目添加到引用數(shù)據(jù)庫，而無需使用用戶數(shù)據(jù)庫管理器或在引用數(shù)據(jù)庫庫中創(chuàng)建新索引文件。新條目數(shù)據(jù)可以從CIF文件導(dǎo)入和/或手動編輯。

用戶可配置的自動Rietveld優(yōu)化：可輕松創(chuàng)建、存儲和調(diào)用最多10個后續(xù)優(yōu)化的參數(shù)序列集。

新的用戶級“Rietveld”，自動運(yùn)行所有步驟，包括識別匹配階段和Rietveld改進(jìn)。用戶所要做的就是選擇要分析的原始衍射數(shù)據(jù)文件，并等待幾秒鐘，直到顯示相位分析報(bào)告。

非對稱幾何的新試樣位移校正

用于“批量”處理選項(xiàng)的新工具欄按鈕

已重新排列“搜索匹配/選擇條目/FullProf”工具欄中的按鈕順序，使其從左到右更加合理。

新菜單“數(shù)據(jù)庫”現(xiàn)在包含與參考數(shù)據(jù)庫相關(guān)的所有命令

手冊已重新修訂和重組。

引入了更新訂閱模型。

 

系統(tǒng)要求（最低）

 

Windows

帶有MicrosoftWindows XP、Vista、Windows 7、Windows 8或Windows 10操作系統(tǒng)（32位或64位）的個人計(jì)算機(jī)

2 GB內(nèi)存

至少有500 MB可用磁盤空間的硬盤

圖形分辨率至少為1024x 768像素（建議1280 x 800像素或更高）

應(yīng)Rietveld精化的需求，2018年1月（或之后）全面發(fā)布FullProf

 

MacOS

帶Intel處理器和MacOS10.10“Yosemite”操作系統(tǒng)的Mac（或更高版本）

2 GB內(nèi)存

至少有500 MB可用磁盤空間的硬盤

圖形分辨率至少為1024x 768像素（建議1280 x 800像素或更高）

應(yīng)Rietveld精化的需求，2018年3月（或之后）全面發(fā)布FullProf

 

Linux

帶有Linux（Intel 64位）的個人計(jì)算機(jī)，例如Ubuntu

2 GB內(nèi)存

至少有500 MB可用磁盤空間的硬盤

圖形分辨率至少為1024x 768像素（建議1280 x 800像素或更高）

應(yīng)Rietveld精化的需求，2018年2月（或之后）全面發(fā)布FullProf